Przetargi.pl
Dostawa i montaż systemu linii doprowadzających gazy robocze (BCl3, O2, N2, Ar) do urządzeń technologicznych Postępowanie nr WEiTI/235/BZP/2010/1035

Politechnika Warszawska Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych ogłasza przetarg

  • Adres: 00-665 Warszawa, ul. Nowowiejska 15/19
  • Województwo: mazowieckie
  • Telefon/fax: tel. 0-22 234 51 01 , fax. 0-22 234 58 97
  • Data zamieszczenia: 2010-12-01
  • Zamieszczanie ogłoszenia: obowiązkowe

Sekcja I - Zamawiający

  • I.1. Nazwa i adres: Politechnika Warszawska Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych
    ul. Nowowiejska 15/19 15/19
    00-665 Warszawa, woj. mazowieckie
    tel. 0-22 234 51 01, fax. 0-22 234 58 97
    REGON: 00000155400000
  • Adres strony internetowej zamawiającego: www.pw.edu.pl
  • I.2. Rodzaj zamawiającego: Uczelnia publiczna

Sekcja II - Przedmiot zamówienia, przetargu

  • II.1. Określenie przedmiotu zamówienia
  • II.1.1. Nazwa nadana zamówieniu przez zamawiającego:
    Dostawa i montaż systemu linii doprowadzających gazy robocze (BCl3, O2, N2, Ar) do urządzeń technologicznych Postępowanie nr WEiTI/235/BZP/2010/1035
  • II.1.2. Rodzaj zamówienia: dostawy
  • II.1.3. Określenie przedmiotu oraz wielkości lub zakresu zamówienia:
    Przedmiotem zamówienia jest dostawa: Dostawa i montaż systemu linii doprowadzających gazy robocze (BCl3, O2, N2, Ar) do urządzeń technologicznych System linii gazowych wykonany będzie w Instytucie Mikroelektroniki i Optoelektroniki Politechniki Warszawskiej, 00-662 Warszawa, ul. Koszykowa 75. Uproszczony schemat wykonania systemu linii gazowych dołączony jest do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia. Kolorem czerwonym oznaczono linie gazowe, które mają być wykonane w ramach niniejszego zamówienia. Linia doprowadzająca gaz technologiczny (BCl3) do urządzenia do trawienia typu RIE w plazmie chlorowej będzie biegła od pomieszczenia, w którym znajdują się wszystkie gazy technologiczne, oddalonego o ok. 900 cm od szafy z reduktorami gazowymi. Linia ta powinna być wykonana tak, aby umożliwić właściwą eksploatację gazów technologicznych o niskiej prężności par (BCl3). Elementem instalacji gazowej musi być szafa gazowa zabezpieczająca, ognioodporna, przeznaczona do aktywnego przechowywania butli gazowych w pomieszczeniach roboczych. Szafa ta powinna być dostosowana do przechowywania butli gazowej z BCl3. W szafie gazowej powinna być możliwość przechowywania dwóch, minimum 10 kilogramowych, butli gazowych. W szafie gazowej powinien zostać zainstalowany specjalny panel redukcyjny, dostosowany do tego typu gazu technologicznego. Następnie gaz technologiczny będzie przesyłany poprzez panel dozujący (z zainstalowanym MFC) do urządzenia do trawienia typu RIE. Odległość urządzenia od szafy z reduktorami gazowymi to ok. 150 cm. Do urządzenia muszą być doprowadzone także dodatkowe gazy (O2, N2, Ar), których instalacje będą stanowiły rozszerzenie istniejących linii gazowych. Linia doprowadzająca gazy technologiczne (O2, N2, Ar) do urządzenia do rozpylania magnetronowego warstw dielektrycznych i metalicznych będzie także rozszerzeniem istniejącej linii gazowej, zainstalowanej pod sufitem pomieszczenia laboratoryjnego. Wejście do wszystkich istniejących linii gazowych wykonane będzie poprzez podłączenie trójników. Szczególne wymagania dotyczące przedmiotu zamówienia: Zaleca się przeprowadzenie wizji lokalnej w celu dokonania niezbędnych pomiarów. Linie gazowe powinny być zakończone odpowiednimi zaworami. Aparatura systemu linii doprowadzającej gazy robocze powinna być produktem wysokiej jakości, musi być fabrycznie nowa z bieżącej produkcji, wolna od wad materiałowych i prawnych. Aparatura systemu linii doprowadzającej gazy robocze powinna być oznakowana w taki sposób, aby możliwa była identyfikacja zarówno produktu jak i producenta. Dostarczony zestaw musi zawierać wszystkie niezbędne elementy umożliwiające rozpoczęcie pracy. Aparatura systemu linii doprowadzającej gazy robocze musi spełniać wymagania wynikające z przepisów bezpieczeństwa i higieny pracy oraz wymagania i normy określone w opisach technicznych. Przedmiot zamówienia powinien być dostarczony i zamontowany w siedzibie Użytkowników tj.: Politechnika Warszawska, Wydz. Elektroniki i Technik Informacyjnych, Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki, ul. Koszykowa 75, 00-662 Warszawa, Pokój 340 oraz 332
  • II.1.4. Wspólny Słownik Zamówień (CPV): 452312234
  • II.1.5. Czy dopuszcza się złożenie oferty częściowej: nie
  • II.1.6. Czy dopuszcza się złożenie oferty wariantowej: nie
  • II.1.7. Czy przewiduje się udzielenie zamówień uzupełniających: tak
  • II.2. Czas trwania zamówienia lub termin wykonania: 21 dni

Sekcja III - Informacje o charakterze prawnym, ekonomicznym, finansowym i technicznym

  • III.1. Warunki dotyczące zamówienia
  • Informacja na temat wadium: Zamawiający nie przewiduje wniesienia wadium.

Sekcja IV - Procedura przetargowa

  • IV.1. Tryb udzielenia zamówienia
  • IV.1.1. Tryb udzielenia zamówienia: przetarg nieograniczony
  • IV.2. Kryteria oceny ofert
  • IV.2.2. Wykorzystana będzie aukcja elektroniczna: nie
  • IV.3. Informacje administracyjne
  • IV.3.1. Adres strony internetowej, na której dostępna jest specyfikacja istotnych warunków zamówienia: http://www.zamowienia.pw.edu.pl/
  • IV.3.5. Termin związania ofertą, okres w dniach: 30 (od ostatecznego terminu składania ofert)

Zobacz następny przetargZobacz poprzedni przetargPobierz ofertę w pliku pdfPowrót na stronę główną

Podobne ogłoszenia o przetargach